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GVC-1000离子溅射仪
HZOIN-9Z: 1000
编号: GVC
电压: 2400V
品牌: Microhezao
精度: 10-20nm
工作气体: 氩气空气氮气
靶材种类: 金铂金银铜
真空腔室: 直径120高度130
保护功能: 真空保护电流保护
产品详情

  MicroHezao GVC-1000是一款全新自主研发的直流离子溅射仪,该系列产品拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备,轻松助您取得更好地材料研究样品, 获得高质量的显微镜观测效果,我们MicroHezao电镜制样技术团队,为您提供全套解决方案。

  GVC-1000离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求,尤其是电极溅射方面,并且我公司与多家科研单位及工厂的合作案例包含重科研北京物理所,南开大学,兰州化学物理研究院,山东大学,复旦大学,上海交通大学及西安交通大学等多个国家重点实验室。

GVC-1000离子溅射仪控制页面

20191119 20191119


系统特点

○ 仪器采用微处理器控制,自动化程度高、精确控制、易于操作;
5英寸彩色触摸屏,可实时显示真空度、溅射电流、设定溅射时间、剩余溅射时间、膜厚估算等;
可溅射金、银、铜、铂等常用靶材;
实时显示设备运行时间、靶材使用时间,方便了解设备情况;
内置过流、真空保护,在溅射电流过高或真空较差时自动中断,安全可靠;
高灵敏度微调阀,可精确控制气体流量;
靶材组件采取翻盖式设计,操作简洁、方便;
内置用户使用向导和说明书,方便用户操作。



指 标 参 数


     外形尺寸: 424× 290×2 65 (mm)     工作电压: 200-240VAC 50H z

     溅射电压: DC2400V                           控制模式: 微处理器控制

     最大功率: 500W                                 溅射电流: ≤30 mA

     溅射时间: ≤600s                                极限真空 : 0.1Pa

     工作真空: ≤30Pa                               膜层厚度: 内置膜厚估算(金靶)

     真空测量: 电阻规               真空 速 率: <2L /s



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